研究業績リスト
（2）研究業績リスト
査読論文
(a) 原著論文-１７５報末尾引用数（Google Scholarによる・2021年10月）
1. S. Yoshihara, M. Ueno, Y. Nagae, A. Fujishima, Effect of Brightener on Copper Plating; in situ Investigation by the PAS Technique, J. Electroanal. Chem. Interfacial Electrochem, 243, 475-479(1988) 引用数10
2.S. Yoshihara, A. Aruchamy, A. Fujishima, Photoacoustic in situ Measurements of Quantum Efficiencies for Photoanodic Reactions of at n-type Semiconductor Electrodes, Bull. Chem. Soc. Jpn., 61, 1017-1019(1988) 引用数12
3.S. Yoshihara, A. Fujishima, Photoacoustic in situ Measurement of Quantum Efficiency for Photoelectrochemical Evolution of Hydrogen on p-Indium Phosphide, Mat. Res. Bull., 23, 759-763 (1988) 引用数8
4.吉原佐知雄，藤嶋 昭，光音響分光法による銅めっき過程のin situ観測，金属表面技術, 39, 527-531 (1988) 引用数２
5.吉原佐知雄，藤嶋 昭，光励起された白金担持ｐ型ＩｎＰの水素電極反応における電解分離率，日本化学会誌, 1664-1669(1988)
6.S. Yoshihara, M. Ueno, Y. Nagae, A. Fujishima, In situ monitoring of the surface structures of copper plated metals by using PAS technique, Electrochim. Acta, 33, 1685-1688(1988) 引用数11
7.S. Yoshihara, R. Takahashi, M. Odaka, I. Miura, E. Sato, A. Fujishima, In situ observation of the gold plating process using a photoacoustic technique, J. Electroanal. Chem. Interfacial Electrochem., 278, 409-414(1990) 引用数14
8.S. Yoshihara, E. Sato, A. Fujishima, Investigation of Nickel Plating by Photoacoustic Spectroscopy (PAS) and Scanninng Tunneling Microscopy (STM), Ber. Bunsenges. Phys.Chem.(現在Chemistry Chemical Physics), 94, 603-606 (1990) 引用数15
9, 加藤 彰，高木章嘉，吉原佐知雄，糸井康彦，神戸哲，佐藤栄一, アルミニウム合金の孔食に及ぼす有機物系食品添加物の影響, 表面技術, 41, 772-776 (1990)
10.吉原佐知雄，高橋亮二，佐藤栄一, プリント配線基板作製工程における銅めっき過程の光音響的手法によるその場測定, 表面技術, 41, 1065-1066(1990)
11.恩田時伯，岡安憲之，吉原佐知雄，佐藤栄一, Ni-P-SiC, Ni-P-Diamond複合皮膜の無電解めっきに対するインピーダンス解析, 表面技術, 42, 79-83(1991) 引用数１
12.入江晃士，竹林恭志，三浦育子，吉原佐知雄，佐藤栄一, 無電解めっき過程のＰＡＳによるin situ観測, 表面技術, 42, 129-130 (1991)
13.渡辺公秀，入江晃士，吉原佐知雄，佐藤栄一, 金－銅、金－ヒ素合金皮膜の微細化について, 表面技術, 42, 548-552(1991)
14.S. Yoshihara, R. Takahashi, M. Okamoto, E. Sato, A. Fujishima, Photoacoustic Detection of Pb underpotential Deposition on Ag, Electrochim.Acta, 36, 1959-1961 (1991) 引用数9
15.入江晃士，竹林恭志，三浦育子，吉原佐知雄，佐藤栄一, 無電解ニッケルめっき過程における応力割れの検出；光音響的手法によるアプローチ, 表面技術, 42, 852-853(1991)
16.吉原佐知雄，高橋亮二，岡本三永子，佐藤栄一, 単結晶銀上への鉛のUnderpotential Deposition過程のIn Situ観測；光音響的手法によるアプローチ, 表面技術, 42, 1044-1046 (1991)
17.入江晃士，小林美紀，三浦育子，吉原佐知雄，佐藤栄一, 走査型光音響分光法による無電解めっき過程のin situ観測, 表面技術, 43, 158-159 (1992)
18.吉原佐知雄，岡本三永子，遠藤浩二，佐藤栄一, ミラージュ法及びＳＴＭによる銀上の鉛のＵＰＤ現象のIn Situ検出, 表面技術, 43, 462-466 (1992)
19.竹林恭志，熊谷和彦，吉原佐知雄，佐藤栄一，千葉 淳, ニッケル初期電析に及ぼす磁場の影響；走査型トンネル顕微鏡による観察, 表面技術, 43, 612-613 (1992)
20.入江晃士，小林美紀，中澤育子，吉原佐知雄，斎藤哲男，佐藤栄一, アコースティックエミッション法による無電解Ni-Bめっき皮膜の密着性の評価, 表面技術, 43, 718-719 (1992)
21.吉原佐知雄，竹田香里，佐藤栄一，米盛隆一，内山郁夫，佐伯俊一, アルミニウムの電解エッチング過程の光音響的手法による検討, 表面技術, 43, 1070-1072 (1992)
22.高橋忠昭，阿部一浩，吉原佐知雄，佐藤栄一, Ni-TiO２分散めっき皮膜の光電気化学的挙動, 表面技術, 44 , 13-16(1993)
23.竹林 恭志，熊谷和彦，吉原佐知雄，佐藤栄一，千葉 淳, ニッケル初期電析に及ぼす磁場の影響；光音響的手法による観察, 表面技術, 44, 65-66 (1993)
24.高橋忠昭，蓬田秀幸，吉村俊一，吉原佐知雄，佐藤栄一, ニッケル－ダイアモンド複合めっき皮膜の腐食に伴うカラー変化；光音響的手法による評価, 表面技術, 44, 179-180 (1993)
25.竹林恭志，金野雄祐，吉村俊一、吉原佐知雄、佐藤栄一, 無電解ニッケルめっきに及ぼす磁場の影響：光音響的手法による観察, 表面技術, 44（4）, 363-364 (1993) 引用数３
26.山田 智，稔野宗次，松本泰道，本坊寿吉，佐藤栄一，白樫高史，吉原佐知雄#, 高周波マグネトロンスパッタリング法を用いたLaNiO３ペロブスカイト薄膜の作製, 電気化学及び工業物理化学, 61, 1011-1013 (1993) 引用数２
27.小林美紀，千葉和則，中澤育子，吉村俊一，吉原佐知雄，佐藤栄一，陶村 貴, 置換金めっき過程への水晶振動子マイクロバランス法の適用, 表面技術, 44, 1006-1007 (1993)
28.阿部一浩，小林達郎，佐藤正寿，吉原佐知雄，佐藤栄一, Ｗ／０エマルションの相変化の光音響的手法による評価, 表面技術, 44, 1008-1009 (1993)
29.飯村修志，前田重之，吉原佐知雄，佐藤栄一, プリント配線板用銅箔作製行程における添加剤の効果, 表面技術, 44, 1119-1122 (1993)
30.吉村俊一，吉原佐知雄，白樫高史，佐藤栄一, Ni/Feの多層電析膜からのＮｉ－Ｆｅの合金層の作製, 表面技術, 44, 1189-1190 (1993)
31.S. Yoshihara, K. Endo, E. Sato, J. O'M. Bockris, STM study of photoelectrochemical plating on a p-type silicon electrode, J. Electroanal. Chem.Interfacial Electrochem., 372, 91-94 (1994) 引用数14
32.遠藤浩二，高田昌弥，吉原佐知雄，佐藤栄一, ＳＴＭによるポリアニリンの電気化学的重合過程の‘その場’観測, 表面技術, 45, 110-111 (1994)
33.佐藤正寿，阿部一浩，川端宣幸，吉原佐知雄，佐藤栄一，白樫高史, Ｗ／Ｏエマルションインキの交流インピーダンス法による安定性評価, 日本印刷学会誌, 31, 124-128 (1994) 引用数１
34.吉村俊一，吉原佐知雄，白樫高史，佐藤栄一，石井 清, 電解析出した鉄めっき膜の磁気特性と構造, 日本応用磁気学会誌, 18, 281-284 (1994)
35. S Yoshimura, S Yoshihara, T Shirakashi, E Sato, K Ishii, Magnetic Properties and Structures of Electrodeposited Iron Films, IEEE Translation Journal on Magnetics in Japan 9 (5), 112-117(1994)引用数６
36. A. Chiba, K. Kawazu, O. Nakano, T. Tamura, S. Yoshihara, E. Sato, Effect of Magnetic Fields on the Corrosion of Aluminum Foil in Sodium Chloride Solution, Corrosion Science, 38, 539-543 (1994) 引用数６８
37.山田 智，稔野宗次，松本泰道，Nanik INDAYANINGSIH，本坊寿吉，佐藤栄一，白樫高史，吉原佐知雄, 高周波マグネトロンスパッタリング法を用いたLa含有複合酸化物薄膜の作製と電気伝導性, 電気化学及び工業物理化学, 62, 246-250 (1994) 引用数２
38.S. Yoshimura, S. Yoshihara, T. Shirakashi, E. Sato, PREFERRED ORIENTATION AND MORPHOLOGY OF ELECTRODEPOSITED IRON FROM IRON(II) CHLORIDE SOLUTION, Electrochim. Acta, 39, 589-595 (1994) 引用数７７
39.斉藤哲男，山口ひとみ，佐藤栄一，吉原佐知雄, 無電解Co合金皮膜の磁気特性に及ぼす熱処理の影響, 表面技術, 45, 411-415 (1994) 引用数２
40.佐藤正寿，阿部一浩，小林達朗，吉原佐知雄，佐藤栄一，白樫高史, W/Oエマルションの状態変化の光音響的手法による評価, 表面技術, 45, 934-937 (1994) 引用数１
41.S. Yoshimura, S. Yoshihara, T. Shirakashi, E. Sato, Preparation of Thin Nickel Films by Means of Potentiostatic Pulse Electrolysis, J. Surf. Fin. Soc. Jpn, 45, 1316-1317 (1994)
42. S. Yoshimura, S. Yoshihara, T. Shirakashi, E. Sato, Magnetic behavior and properties of electrodeposited iron films undergoing flash annealing, Trans. IMF, 73(1), 31-33 (1995) 引用数３
43. S. Yoshimura, S. Yoshihara, T. Shirakashi, E. Sato, Microhardness and Crystal Structure of Iron Films Electrodeposited from Iron(Ⅱ) Chloride Solution, Trans. IMF, 73（3）, 111-113 (1995)引用数３
44.S. Yoshimura, S. Yoshihara, T. Shirakashi, E. Sato, Magnetic Behavior and Properties of Electrodeposited Iron Films Undergoing Flash Annealing, J. Surf. Fin. Soc. Jpn, 46 , 77-78 (1995)
45.山田 智，堀 茂徳，松本泰道，倉富純一，本坊寿吉，白樫高史，吉原佐知雄，稔野宗之，佐藤栄一, 高周波マグネトロンスパッタリング法を用いたLa-Mn複合酸化物薄膜の作製と酸素センサー特性, 電気化学及び工業物理化学, 63 , 205-211 (1995)
46.佐藤正寿，阿部一浩，吉原佐知雄，佐藤栄一，白樫高史, 水/n-パラフィンエマルションの粘弾性に与える水相の影響, 日本レオロジー学会誌, 23, 153-157 (1995)
47.浜野 学，吉原佐知雄，佐藤栄一，千葉 淳, 電解ニッケルめっきに及ぼす磁場の影響；水晶振動子マイクロバランス法による検討, 表面技術, 46, 575-576(1995)
48.山口靖英，山崎正敏，吉原佐知雄，白樫高史, 亜鉛の陽極酸化における電解条件と皮膜の生成過程, 電気化学及び工業物理化学, 64, 373-377 (1996)引用数６
49.土橋 誠，吉原佐知雄，白樫高史，高橋直樹，横田俊子, 水晶振動子マイクロバランス法による亜鉛電析の研究, 表面技術, 47 , 513-517 (1996) 引用数３
50.吉原佐知雄，三村 浩，白樫高史，佐藤正寿, Ｗ／Ｏエマルションの相構造変化に対する水晶振動子マイクロバランス法によるリアルタイムモニタリング, 日本化学会誌, 780-786 (1996) 引用数１
51.A. Chiba, W.-C. Wu, S. Yoshihara, Crystal Orientations of Electrodeposited Copper Film from a Magnetically Treated Acid Copper Sulfate Bath, J. Mat. Sci. Lett., 15, 1420-1421(1996)
52.土橋 誠、吉原佐知雄、白樫高史、高橋直樹、横田俊子、亜鉛電析皮膜の質量変化におよぼす添加剤の影響ー水晶振動子マイクロバランス測定による研究ー、表面技術、48, 330-336(1997) 引用数５
53.鶴田加一、吉原佐知雄、白樫高史、プリント回路基板表面のマイグレーションに対する検討、表面技術、48, 324-329(1997) 引用数9
54.安原一誠、清水孝朗、吉原佐知雄、白樫高史、千葉 淳、銀上への鉛のアンダーポテンシャル析出（ＵＰＤ）過程に対する電解液の磁気処理効果、電気化学および工業物理化学、65, 328-329(1997)
55.山口靖英、山崎正敏、吉原佐知雄、白樫高史、陽極酸化により作製した酸化亜鉛皮膜の殺菌特性、表面技術、48, 364-365(1997)
56.土橋 誠、吉原佐知雄、白樫高史、横田俊子、亜鉛電析皮膜の構造におよぼす各種添加剤の影響ー透過型電子顕微鏡観察による検討ー、表面技術、48, 472-473(1997) 引用数３
57.松下一郎、大野 淳、佐藤正壽、吉原佐知雄、白樫高史、水晶振動子マイクロバランス法によるエマルション調製過程の評価、日本化学会誌, 603-608 (1997) 引用数１
58.鶴田加一、吉原佐知雄、白樫高史、プリント回路板のマイグレーション防止方法の検討、回路実装学会誌、12, 425-428 (1997) 引用数１
59.Y. Yamaguchi, M. Yamazaki, S. Yoshihara, T. Shirakashi, Photocatalytic ZnO films prepared by anodizing, J. Electroanal. Chem. Interfacial Electrochem., 442, 1-3(1997) 引用数９６
60.鶴田加一、野中重嗣、手塚秀夫、吉原佐知雄、白樫高史、水晶振動子マイクロバランス（QCM）法を用いたＡｇおよびＣｕのマイグレーション過程の検討、表面技術、49(5)、514-518(1998) 引用数２
61.S. Kusakari, K. Shinozaki, K. Higa, Y. Yamaguchi, S. Yoshihara, T. Shirakashi, Photocatalytic Properties of Transparent ZnO Films Prepared by Anodization of Zinc Plate, Denki Kagaku, 66(6), 594-599(1998) 引用数４
62.松下一郎、小笠原久紀、佐藤正壽、吉原佐知雄、白樫高史、W/Oエマルションインキの紙への浸透現象の光音響法による評価、日本印刷学会誌、35(4), 197-201(1998)
63.野中重嗣、中村 誠、鶴田加一、吉原佐知雄、白樫高史、水晶振動子マイクロバランス法を用いたはんだのイオンマイグレーション過程の検討、表面技術、49(12), 1356-1357(1998) 引用数３
64.S. Yoshihara, K. Shinozaki, T. Shirakashi, K. Hashimoto, D. A. Tryk, A. Fujishima, Photoelectrodeposition of Copper on Boron-Doped Diamond Films: Application of Conductive Pattern Formation on Diamond. The Photographic Diamond Surface Phenomenon, Electrochim. Acta, 44, 2711-1719(1999)
65.野中重嗣、手塚秀夫、中村 誠、鶴田加一、吉原佐知雄、白樫高史、水晶振動子マイクロバランス法を用いたイオンマイグレーションの検討－塩およびインヒビターの影響－、ｴﾚｸﾄﾛﾆｸｽ実装学会誌, 2(1), 24-28(1999) 引用数４
66.白樫高史、田中邦明、田村壽康、吉原佐知雄、活性炭へのHgBrn錯体の吸着、日本化学会誌，1999，137
67.S. Yoshihara, K. Shinozaki, T. Shirakashi, Photoelectrodeposition of Copper on Boron-Doped Diamond Films: Its Application of Conductive Pattern Forming on Diamond and Diamond Photographic Phenomenon, J. Kor. Inst. Surf. Eng., 32(3), 244-248(1999) 引用数３８
68.鵜川孝行、大浦公志、森 香代、吉原佐知雄、白樫高史、白金上の水素吸着過程に対する磁気処理の検討、表面技術、50(3), 301-303(1999) 引用数２
69.中村 誠、田中浩和、吉原佐知雄、白樫高史、鉛フリーはんだにおけるイオンマイグレーションの水晶振動子マイクロバランス法によるin situ評価、表面技術、50(12), 1142-1146(1999)
70.飯村修志、千葉暁生、吉原佐知雄、白樫高史、伊崎昌伸、陰極析出酸化亜鉛皮膜の電解条件による光触媒機能への影響、表面技術、50(12), 1158-1161(1999)
71.S. Yoshihara, K. Shinozaki, T. Zenbayashi, S. Morino, T. Shirakashi, K. Hashimoto, D. A. Tryk, A. Fujishima, Nature of the Photographic Diamond Surface Phenomenon on Boron-doped Diamond, Electrochim. Acta, 45, 3375-3378(2000) 引用数14
72.橘高義成、伊藤政司、吉原佐知雄、白樫高史、橋本和仁、D. A. Tryk、藤嶋 昭、水素終端及び酸素終端ボロンドープダイヤモンド電極上への銅電析反応、Electrochemistry, 68(12), 972-976(2000)
73.田中 浩和，中村 誠，植田 文崇，吉原佐知雄，白樫 高史、QCM法による鉛フリーはんだのイオンマイグレーション過程に及ぼす要因解析、ｴﾚｸﾄﾛﾆｸｽ実装学会誌、3(7), 600-606 (2000) 引用数２
74.飯村修志、小堀浩之、吉原佐知雄、白樫高史、酸化亜鉛担持活性炭の光触媒能の評価、表面技術、51(12), 1252-1253 (2000)
75.善林智範，吉原佐知雄，白樫高史，橋本 和仁，D.A. Tryk，藤嶋 昭，ボロンドープｐ型ダイヤモンド上で発現する光メモリー効果の発現機構に関する検討，表面技術，52(1), 139-140 (2001)
76.飯村修志、長内伸吉、吉原佐知雄、白樫高史、高嵜裕圭、酸化チタンを用いた抗菌砂の開発、防菌防黴誌、29(3),141-146 (2001)
77.飯村修志、手塚秀夫、中川 玲、吉原佐知雄、白樫高史、Ｘ線照射処理による酸化チタンの光触媒活性の向上、Electrochemistry, 69(5),324-328(2001) 引用数21
78.大和弘之、吉原佐知雄、白樫高史、及川 渉、工藤南海夫酸化チタン光触媒を用いたFe-Cr合金めっきの光カソード防食の検討、表面技術、52(9), 649-650 (2001)
79.H. Tanaka, F. Ueta, S. Yoshihara, T. Shirakashi, Effects of Reflow Processing and Flux Residue on Ionic Migration of Lead-Free Solder Plating Using the Quartz Crystal Microbalance Method, Material Transactions, 42(9), 2003-2007 (2001) 引用数15
80.田中 浩和，山下美香，平松洋昭，中村 誠，植田 文崇，吉原佐知雄，白樫 高史、溶融鉛フリーはんだのイオンマイグレーション現象に対するQCM法による解析、ｴﾚｸﾄﾛﾆｸｽ実装学会誌、5(2), 135-139 (2002) 引用数２
81.田中 浩和，平松洋昭，粂川和博，植田 文崇，吉原佐知雄，白樫 高史、交流インピーダンス法を用いた鉛フリーはんだのイオンマイグレーション発生過程の解析．ｴﾚｸﾄﾛﾆｸｽ実装学会誌、5(2), 188-191 (2002) 引用数１
82.白樫高史，茂木貴実，阿部有洋，田村寿康，吉原佐知雄，活性炭によるNO2除去に及ぼす担持金属の影響，日本化学会誌，421-426 (2002)
83.浦辺修一、吉原佐知雄、白樫高史、保土田善文、エポキシ樹脂電気絶縁材料の耐エロージョン性に及ぼすフィラー表面改質の影響、マテリアルライフ学会誌、14(2), 88 (2002)
84. 浦辺修一、長谷川有里、吉原佐知雄、白樫高史、エポキシ系電気絶縁材料の耐候性および耐トラッキング性の電位差滴定法を用いた評価、表面技術、53(8)、555-556(2002)
85. Yanrong Zhang, Shunsuke Asahina, Sachio Yoshihara, Takashi Shirakashi, Fabrication and Characterization of Diamond Quartz Crystal Microbalance Electrode, J. Electrochem. Soc., 149(11), H179-182 (2002) 引用数20
86. 田中 浩和，山下美香，平松洋昭，中村 誠，植田 文崇，吉原佐知雄，白樫 高史、溶融鉛フリーはんだのイオンマイグレーション現象に対するQCM法による解析、ｴﾚｸﾄﾛﾆｸｽ実装学会誌、5(2), 135-139 (2002)
87.黒崎崇敏、中川 玲、飯村修志、吉原佐知雄、白樫高史、ゾル－ゲル電気泳動電着法により作製した酸化チタン皮膜の光触媒活性, Electrochemistry, 70(11)，860-862 (2002) 引用数４
88. 浦辺修一、藤澤 哲、吉原佐知雄、白樫高史、保土田善文、撥水性エポキシ樹脂の耐候性、耐トラッキング性の評価と劣化解析、電気学会論文誌Ａ, 122-A(12), 1052-1058(2002)
89. Yanrong Zhang, Shunsuke Asahina, Sachio Yoshihara, Takashi Shirakashi, Oxygen Reduction on Au nanoparticle deposited boron-doped diamond films, Electrochim. Acta, 48, 741-747(2003) 引用数１２３
90. Yanrong Zhang, Shunsuke Asahina,Miwa Suzuki, Sachio Yoshihara, Takashi Shirakashi, Electrochemical Behavior of 3,6-dihydroxyphenanthrene on Boron-Doped Diamonds, Surface & Coatings Technology, 169-170, 303-306(2003) 引用数４
91. 石井 清、黒川和成、吉原佐知雄、ガスフロースパッタ法による高い光触媒活性を有するTiO2膜の高速堆積、信学技報、CPM2003-70、51-56(2003)
92. 三柴由江、坂井勇磨、吉原佐知雄、白樫高史、桑名 朗、親水性カーボンブラック粒子の添加による無電解複合めっき皮膜の摩擦係数の低下、表面技術、54(10), 714-716 (2003) 引用数１
93. Kiyoshi Ishii, Kazunari Kurokawa, Sachio Yoshihara, High-Rate Deposition of Titanium Dioxide Films with Photocatalytic Activities by Gas Flow Sputtering, IEICE TRANS ELECTRON, E87-C(2), 232-237 (2004) 引用数7
94. Hisaya Takahashi, Sachio Yoshihara, Takashi Shirakashi, Masanobu Izaki, H. Nakamura, SIMS and XPS Analysis on Displacement Au Layers Formed on Electroless Plated Ni-P Layer, J Surf Fin Soc Jpn, 55(3), 220-221 (2004)
95. 佐藤 誠, 吉原佐知雄, 白樫高史、スーパーコネクトレベルの微細配線パターンに対する電気的信頼性の交流インピーダンス法による評価、エレクトロニクス実装学会誌、7(3), 271-275(2004)
96. Suryanarayanan V, Zhang Y, Yoshihara, S, Shirakashi T, Amperometric determination of sodium thiosulphate using boron-doped diamond electrodes applied to flow injection analysis, Sens and Actuators B, 102, 169-173 (2004) 引用数13
97. Yanrong Zhang, Sachio Yoshihara, Cathodic stripping voltammetry of nickel on boron-doped diamond, J. Electroanal. Chem., 573(2), 327-331(2004) 引用数２１
98. Yanrong Zhang, Ikuko Nakazawa, Sachio Yoshihara, Takashi Shirakashi, Electrochemical behavior of Au nanoparticle deposited on as-grown and O-terminated diamond electrodes for oxygen reduction in alkaline solution, Electrochim. Acta, 49, 5235-5240(2004) 引用数６４
99. 安在直人、吉原佐知雄、白樫高史、黒川和成、石井 清、ガスフロースパッタ法による光触媒皮膜の作製とその機能性に関する研究、Electrochemistry, 72(10), 676-679(2004) 引用数１
100. K Kubota, Y Nobumoto, S Yoshihara, T Shirakashi, W Oikawa, Preparation of Fe-Cr alloy film with a compositionally graded structure by the electroplating method, Hyomen gijutsu, 55 (10), 688-691(2004) 引用数３
101. 浅井雅弘、岡本晋一郎、吉原佐知雄、白樫高史，Cu(II)-ピコリン酸錯体を吸着した活性炭のキャパシタ特性, Electrochemistry, 72(11), 763-766 (2004) 引用数３
102. Yanrong Zhang, Sachio Yoshihara, Takashi Shirakashi, Toru Kyomen, Electrochemical characteristics of boron-doped, undoped and nitrogen-doped diamond films, Diamond & Related Materials, 14, 213-219 (2005) 引用数18
103. Vembu Suryanarayanan, Yanrong Zhang, Sachio Yoshihara, Takashi Shirakashi, Voltammetric Assay of Naproxen in Pharmaceutical Formulations using Boron-Doped Diamond Electrode, Electroanalysis, 17(11), 925-932(2005) 引用数６０
104nishing Abrasive with Nickel-Plated Active Carbon, J. Electrochem. Soc., 152(9), D121-123(2005) 引用数8
105. Vembu Suryanarayanan, Sachio Yoshihara, Takashi Shirakashi, Electrochemical Behavior of carbon electrodes in organic liquid electrolytes containing tetrafluoroborate and hexafluorophosphate anionic species in different non-aqueous solvent systems, Electrochim. Acta, 51, 991-999(2005) 引用数14
106. Yanrong Zhang, Sachio Yoshihara, Takashi Shirakashi, Novel application of boron-doped diamond and related material to electrochemical generation of functional water, Electrochim. Acta, 51, 1008-1011(2005) 引用数15
107. 鈴木大祐、吉原佐知雄、白樫高史、酸化亜鉛をバインダーとした酸化チタンナノ粒子含有光触媒膜の電気化学的コート法の開発、Electrochemistry, 73(7), 481-483(2005)
108. 坂井勇磨、張 延栄、吉原佐知雄、進村武男、樹脂粒子上への無電解複合めっきによる磁性砥粒の開発、表面技術、56(11), 687-691 (2005) 引用数１
109. Yanrong Zhang, Sachio Yoshihara, Novel Magnetic Finishing Abrasive with Nickel-Cobalt-Plated Active Carbon and Its Application to Ultraprecision Polishing, J. Electrochem. Soc., 153(4), C203-206 (2006)引用数５
110. 大関裕樹、吉原佐知雄、白樫高史、異方性導電フィルムを用いたフレキシブルプリント配線板に対する電気的信頼性の交流インピーダンス法による評価、エレクトロニクス実装学会誌、9(3)199-203 (2006) 引用数３
111. Vembu Suryanarayanan, Sachio Yoshihara, Ikuko Nakazawa, Takashi Shirakashi, The Influence of electrolyte media on the deposition/dissolution of lead dioxide on boron-doped diamond electrode-A surface morphologic study, J. Electroanal. Chem., 592(2), 175-182 (2007.7.15) 引用数20
112. 横田淳一郎、吉原佐知雄、白樫高史、低誘電率樹脂埋め込みされたスーパーコネクトレベル配線の要素技術に対する電気的信頼性の評価、エレクトロニクス実装学会誌、9(7)、563-568(2006)
113. Muthu Murugananthan, Sachio Yoshihara, Tsuyoshi Rakuma, Nobuo Uehara, Takashi Shirakashi, Electrochemical degradation of 17β-estradiol(E2) at Boron Doped Diamond (Si/BDD) thin film electrode, Electrochimica Acta, 52, 3242-3249(2007) 引用数１６９
114. Yanrong Zhang, Yuki Kato, Sachio Yoshihara, Tadashi Watanabe, A Novel Boron-Doped Diamond (BDD)-Coated Platinum Mesh Electrode for Spectroelectrochemistry, J. Electroanal. Chem., 603, 135-141(2007) 引用数３
115. 半沢啓子，吉原佐知雄，白樫高史，複合無電解めっき法による新規磁性砥粒の作製とそのポストCMP技術への応用，表面技術，58(6)，366-370(2007)
116.阿部有洋、天笠優子、吉原佐知雄、白樫高史、金属担持活性炭によるNO2除去に及ぼす温度および担持量の影響、炭素、227，87-92(2007) 引用数２
117.高橋久弥、小林靖之、古宇田光、藤原 裕、吉原佐知雄、無電解銅めっき用Agナノ粒子触媒の高分散吸着と触媒活性、表面技術、58, 841-845 (2007)
118. Sachio Yoshihara, Keiko Hanzawa, Takashi Shirakashi, Magnetic Abrasive Finishing Using Nano-size Diamond Dispersed Co-Ni Electroless Plated Plastic Balls and its Application to Post CMP Process, ECS Transactions 3(25, Magnetic Materials Processes, and Devices 9), 357-369 (2007) 引用数１
119. M.Murugananthana, S.Yoshihara, T. Rakuma, T.Shirakashi, Mineralization of bisphenol A (BPA) by anodic oxidation with boron doped diamond (BDD) electrode, Journal of Hazardous Materials, 154, 213-220 (2008)引用数２１１
120. 千葉大祐、吉原佐知雄、横山直樹、交流インピーダンス法を用いたカバーレイコート2層銅張積層板の電気的信頼性評価、エレクトロニクス実装学会誌、11[6], 437-443 (2008) 引用数３
121. 松田光由, 吉原佐知雄, 土橋 誠、電気銅めっき皮膜の物性経時変化の抑制、表面技術、59(10), 696-700 (2008)
122. 鈴木大介,吉原佐知雄,筑後悠佳,工藤南海夫、電析Ni-P合金電極の水電解用アノードとしてのin situ耐食性評価、表面技術、60(2), 129-133(2009)
123. Sachio Yoshihara, Photocatalytic Film Prepared by Electrophoretic Sol-Gel Deposition - Challenges for the Visible Light Activity, ECS Transactions, 16 (36) 93-100 (2009) 引用数２
124. S.Yoshihara, M.Murugananthan, Decomposition of Various Endocrine Disrupting chemicals at Boron Doped Diamond electrode, Electrochimica Acta, 54, 2031–2038 (2009) 引用数６４
125.佐々木修一、吉原佐知雄，Cu（Ⅱ）ピコリン酸錯体を利用したスーパーキャパシタに関する研究（第２報）, Electrochemistry, 77(4), 315-318 (2009)
126. 松田光由、高橋拓也、吉原佐知雄、土橋 誠、電気銅めっき皮膜の物性におよぼす浴中添加剤の効果、表面技術、60(6), 413-415 (2009)
127. 筑後悠佳、吉原佐知雄、磁気研磨法のはんだ印刷用マスク加工技術への応用、表面技術、60(7), 523 (2009)
128. Mitsuyoshi Matsuda, Takuya TAKAHASHI, Sachio YOSHIHARA and Makoto DOBASHI, Effect of the Additives in the Electrolyte on the Physical Property of the Electrodeposited Copper, Transactions of The Japan Institute of Electronics Packaging, 2, 55-61 (2009) 引用数8
129. 吉原佐知雄、ヒドロキノン／繊維状活性炭電極の電気二重層・疑似容量複合キャパシタへの応用、表面技術、61(3),263-266（2010）
130. 高橋拓也、松田光由、吉原佐知雄、銅電析における浴中添加剤の影響に関するEQCM法による解析、表面技術、61(4), 334-336（2010）
131. M.Murugananthan, S.S.Lathaa, G.Bhaskar Rajua, S.Yoshihara, Anodic oxidation of ketoprofen- an anti inflammatory drug using borondoped diamond and platinum electrodes, Journal of Hazardous Materials, 180, 753-758 (2010) 引用数８６
132. 久保田賢治,藤崎 済, 小綿 明, 相田正之,古内哲哉,櫻井 健,吉原佐知雄, 2層FCCLのNi-Cr-Moシード層のエッチング性および耐食性, エレクトロニクス実装学会誌, 14(2), 136-139 (2011)
133. M.Murugananthan, S.S.Lathaa, G.Bhaskar Rajua, S.Yoshihara, Role of electrolyte on anodic mineralization of atenolol at boron doped diamond and Pt electrodes, Separation and Purification Technology, 79, 56–62 (2011). 引用数８０
134. Sachio Yoshihara, QCM Analysis of the Deposition Process in the Presence of the Additives for Copper Foil, ECS Transactions, 41 (26) 1-8 (2012) 引用数４
135. 久保田 賢治，新山 貴士，松本 克才，吉原 佐知雄，ペルオキソ二硫酸アンモニウム溶液を用いた銅のエッチングレートに結晶構造が及ぼす影響，エレクトロニクス実装学会誌, 15(3), 197-204 (2012)
136. Yanrong Zhang , Ying Zhang, Nan Yang, Wenjuan Liao, Sachio Yoshihara, Electrochemical degradation and mechanistic analysis of microcystin-LR, Journal of Chemical Technology & Biotechnology, 88, 1529-1534 (2013) 引用数11
137. 柳岡俊宏, 吉原佐知雄，ボロンドープダイヤモンドの磁場作用下の電気化学反応に関する研究，Electrochemistry), 81 (2)，70 -73 (2013)
138. Yanrong Zhang, Nan Yang, M. Murugananthan, Sachio Yoshihara, Electrochemical degradation of PNP at boron-doped diamond and platinum electrodes, Journal of Hazardous Materials, 244–245, 295–302(2013) 引用数５０
139. 久保田 賢治，松本 克才，吉原 佐知雄，過酸化水素-硫酸エッチング液による銅のエッチングレートに結晶組織が及ぼす影響，エレクトロニクス実装学会誌, 16(2), 119-126 (2013)
140. 久保田賢治、松本克才、吉原佐知雄、パルス電解条件が銅めっき皮膜の結晶配向性とエッチングレートに与える影響、表面技術、64(6), 368-370 (2013)
141. Wenjuan Liao, Yanrong Zhang, Mi Zhang, Muthu Murugananthan, Sachio Yoshihara, Effective Photoelectrocatalysis Degradation of Microcystin-LR on Ag/AgCl/TiO2 Nanotube Arrays Electrode under Visible Light Irradiation, Chemical Engineering Journal, 231, 455–463 (2013) 引用数７１
142. Sachio Yoshihara, Daisuke Suzuki, Kouji Someya, Takanori Kikuchi, Yoshifusa Ishikawa, Electrode Performance of Newly Developed Ni-W-S Deposited Alloy for Alkaline Water Electrolysis, ECS Trans., 53(19): 15-25 (2013) 引用数１
143. 永島正毅、吉原佐知雄、ハイドロキノン吸着活性炭電極と硫酸ゲルを用いた電気二重層キャパシタの開発とその評価, Electrochemistry, 82(6), 426-429 (2014)
144. 片山正彦、吉原佐知雄、清野正三、君塚亮一、ダイレクトレーザービア工程において発生する銅オーバーハングの磁気研磨法による新規除去技術の検討、エレクトロニクス実装学会誌, 17(4), 292-296 (2014)
145. 伊達和宏, 吉原佐知雄, 野澤純一, 野尻尚克, 金めっき浴中における銅不純物の電解除去による管理技術, エレクトロニクス実装学会誌, 17(5), 442-444 (2014)
146. 石川祥久,吉原佐知雄、石橋翔太、秋葉拓也、及川 渉、Fe-Ni-W 合金めっき膜特性に及ぼすアスコルビン酸塩濃度の影響、表面技術、66(10), 472-476 (2015)
147. Murugananthan Muthu, Kandavelu Velappan, Sachio Yoshihara, Mallaiya
Kumaravel, Anodic oxidation of isothiazolin-3-ones in aqueous medium by using Boron doped Diamond electrode, Diamond & Related Materials, 69, 152-159 (2016) 引用数２１
148. 吉原佐知雄、表面修飾活性炭電極を用いた電気二重層キャパシタの開発とその交流インピーダンス法による解析、Electrochemistry, 84(12), 963-966 (2016) 引用数１
149. 石川祥久, 吉原佐知雄, 石橋翔太, 松澤篤央, 及川 渉, Fe-Ni-W合金めっき皮膜の耐食性に及ぼす熱処理の影響, 表面技術、68(1), 54-59 (2017)
150. 石川 祥久, 吉原佐知雄, 石橋翔太, 松澤篤央, 及川
渉, Fe-Cr合金めっき皮膜の耐食性に及ぼす熱処理の影響, 表面技術、
68(4), 223-225 (2017)
151. 吉原佐知雄, 今野七月，アルカリ水電解におけるFe-Ni-W合金電極特性，Electrochemistry, 85(11), 728-734 (2017)
152. Md. Nazmul Kayes, Mohammad Shahabuddin, Md Jalil Miah, Michinori Karikomi, Sachio Yoshihara, Eri Nasuno, Norihiro Kato, Ken-ichi Iimura, Thin Films of an Axially Chiral Bibenzo[c]phenanthrene Diol and its Enantiomers: Film Structure, Optical Property, and Photoelectrochemical Response, Colloids & Surfaces A, 538, 155–163 (2018) 引用数４
153. Md. Nazmul Kayes, Md Jalil Miah, Mohammad Shahabuddin, Michinori Karikomi, Sachio Yoshihara, Eri Nasuno, Norihiro Kato, Ken-ichi Iimura, Dihydroxy-hexahelicene in Thin Films; Structural Characterization and Photoelectrochemical Properties, Trans. Mat. Res. Soc. Japan, 43(2), 57-60 (2018)
154. 諸江 翔太,吉原佐知雄,L-ヒスチジン添加による亜鉛電析及び銅電析のダイナミックスに与える影響,表面技術、69(6), 247-248 (2018)
155. SACHIO YOSHIHARA, SHUNSUKE WAKUDA1 AND YUUYA HANZAWA1, DEVELOPMENT OF CAPACITY-VARIABLE EDLC SYSTEM ADJUSTABLE FOR VARIOUS POWER DEMANDS, Journal of Applied Physical Science International, 10(3), 106-122, (2018)
ISSN: 2395-5260 (P), ISSN: 2395-5279 (O)
156. Sachio Yoshihara, Nazuki Konno, Application of ferrous alloy plated electrode on Raney alloy as a platform to alkaline water electrolysis, International Journal of Engineering Research and Applications, 9(4), 65-72 (2019)
157. 伊藤皇聖，多賀千裕，吉原佐知雄，野尻尚克，石堂慎士，菊地義弘,ギ酸系、過硫酸塩系粗化液による、銅のエッチング工程の電気化学的解析,表面技術, 70(5). 281-285（2019）
158. 吉原 佐知雄, L-ヒスチジンを添加したピロリン酸亜鉛及び銅浴からの電析機構の解析，表面技術，70(9)，477-482（2019）
159. Sachio Yoshihara, Hikari Ohtake, Jiu Sasaki, Application of Fe-Ni-W plated film electrode to Zinc–air battery, Journal of Materials Science and Chemical Engineering, 7, 57-64 (2019)
160. 石川 麻理奈,吉原佐知雄、硫酸ー過酸化水素系水溶液の不純物添加によるエッチング過程への影響評価、表面技術 70(12), 618-619(2019）
161. 茂手木 慶，吉原 佐知雄, 清野 正三，谷本 樹一，プリント配線板のセミアディティブ工程におけるエッチングプロセスの電気的信頼性に与える影響ー交流インピーダンスによる解析，エレクトロニクス実装学会誌，23(3), 239-242(2020)
162. Yuuya HANZAWA , Sachio YOSHIHARA, Development of Vanadium Ion Redox Capacitor, Electrochemistry, 88(3), 112-118 (2020)
163. 吉原 佐知雄,奥山 理央, 菊地 義弘, 石堂 慎士, 野尻 尚克, 様々な実験条件におけるギ酸系粗化液による、銅のエッチング工程の交流インピーダンス法による解析, 表面技術, 71(8), 516-520（2020）
164. 与世田泰斗 中澤育子 吉原 佐知雄、複雑形状工作物の磁気研磨による表面仕上げに関する研究、表面技術, 72(1), 57－58（2021）
165. 吉原 佐知雄, 高須賀 天, 茂手木 慶,岩本 博之, 宗形 修, 中村 勝司, 鶴田 加一, Snめっき電流波形のウィスカ成長に対する抑制効果(Suppression Effects of Current Wave Forms of Sn Plating on Whisker Growth), エレクトロニクス実装学会誌，24, 580－585 (2021)
166．吉原 佐知雄,医用ステントNi-Ti合金材の磁気研磨による表面仕上げに関する研究、
表面技術 Vol.72 No.11，626-630（2021）
167. 岩本 博之，中村 勝司，宗形 修，吉原佐知雄, Snめっき皮膜における外部応力型ウィスカと結晶方位に関する検討, 表面技術 Vol.72 No.12, 710－712（2021）
168．古賀 優志, 吉原 佐知雄, 高須賀 天，岩本 博之, 中村 勝司, 鶴田 加一, 宗形 修，Sn めっきウィスカと配向性及びひずみの関係性，表面技術，Vol.73, No.3, 157-159（2022）
169. Atiqah Binti Jasni, Sachio Yoshihara, Fumio Aiki & Hideki Watanabe, Pyrimidine derivative-based cyanide-free silver electroplating bath, TRANSACTIONS OF THE IMF, Vol.15, Pages 193-199 (2022)
Institute of Materials Finishing Published by Taylor & Francis, https://doi.org/10.1080/00202967.2022.2070166,
170. Sachio Yoshihara, Rio Okuyama, Yoshihiro Kikuchi, Shogo Shiraiwa, Naokatsu Nojiri, The Analysis of Etching/Erosion Process in the Electronics
Implementation Field, Transactions of The Japan Institute of Electronics Packaging, Volume 15, Pages E22-002-1-E22-002-5（2022）
171. Atiqah Binti Jasni, 吉原 佐知雄,斎藤 光,相木 文男, 渡邉 秀樹, 電気化学測定法を用いたシアンフリー銀めっき過程の解析,表面技術, Vol.74, No.2, pp. 125－127（2023）
172. 𡈽屋政人,吉原佐知雄,柴田敦司,中村勝司, スズ電解精錬を想定したSb・Bi含有Snアノード材の不働態化評価, エレクトロニクス実装学会誌, 26巻, 3号 pp.283-289 (2023) DOI: https://doi.org/10.5104/jiep.JIEP-D-22-00126
173. 佐伯泰我,大貫孝浩,吉原佐知雄,石川祥久,元井 健一郎,及川 哲史, ボロンドープダイヤモンド電極を用いたピロリン酸銅めっき浴中の有機添加剤クアドロールの分析, 表面技術, Vol.74, No.7, 367-371（2023）
174. Atiqah Binti Jasni, Sachio Yoshihara, Electrodeposition of Silver in Cyanide-free solution Containing Pyrimidine Derivative as Complexing Agent, Journal of The Electrochemical Society, 170, 092504 (2023) DOI 10.1149/1945-7111/acf6e3
175．Inoue, Kento; Inagawa, Arinori; Yoshihara, Sachio; Uehara, Nobuo, Novel Chromatic Reaction Based on the Redox Reaction between Tertiary Aromatic Amines and Gold(Ⅲ) or Cerium(Ⅳ), Bull. Chem. Soc. Jpn., BCSJ-2024-0011.R1
Received Date: 13-Feb-2024
技術論文-3報
1.久保田賢治、延本要介、吉原佐知雄、白樫高史、及川 渉、工藤南海夫、電析による組成傾斜構造を持ったFe-Cr合金めっき皮膜の作製、表面技術、55(10)、688-691 (2004)
2.延本要介、吉原佐知雄、白樫高史、及川 渉、工藤南海夫、水晶振動子マイクロバランス法を用いた鉄めっき過程の電流効率の長期的評価、表面技術、57(5), 379-382（2006）
3. 柴沼 亮佑，吉原 佐知雄、銅ダマシン法により作製した半導体デバイス用配線材料の信頼性解析のための接点接続状態の交流インピーダンス法による評価、エレクトロニクス実装学会誌, 19(3), 184-188(2016)
(b) 国際会議の発表・プロシーディング―８２編（招待講演６件, Keynote Speech１件を含む）
1. A. Fujishima, S. Yoshihara, A. Aruchamy, In situ Observation of Electrode Surface by Using Photoacoustic and Photocurrent Spectroscopies, Proc. of 40th International Society of Electrochemistry (Kyoto, Japan), 467-468(1989)
2. S. Yoshihara, E. Sato, Inhibitor Effect on Pitting Corrosion of Aluminum Alloy; Investigation by PAS, Proc. of the 41st International Society of Electrochemistry(Prague, Czechoslovakia), Fr-62 (1990)
3. S. Yoshihara, K. Endo, M. Okamoto, E. Sato, New Aspect of Underpotential deposition; Photothermal Investigation of Oscillation Phenomenon and Incorporation of UPD Atom, Proc. of the First West Pacific Electrochemistry Symposium, 215(1992)
4. S. Yoshihara, M. Okamoto, K. Endo, E. Sato, Detection of Pb underpotential deposition on Ag by Using Mirage effect method (PDS) and electrochemical scanning tunneling microscope(ECSTM), Proc. of INTERFINISH 92(Sao Paulo, Brazil), 1434-1441 (1992)
5. S. Yoshihara, E. Sato, J. O'M Bockris, STM Study for the Photoelectrochemical Plating on p-type Silicon Electrode, Proc. of 183rd Meeting of The Electrochemical Society(Honolulu, Hawaii), 906 (1993)
6. S. Yoshimura, S. Yoshihara, T. Shirakashi, E. Sato, K. Ishii, Characteristics of High-Q Coils Composed of Fe-Plated Cu Wire , Proc. of The First Magneto-Electronics International Symposium(Nagano, Japan), 485-487(1994)
7. S. Yoshimura, S. Yoshihara, T. Shirakashi, E. Sato, PREPARATION OF THIN NICKEL FILMS BY MEANS OF POTENTIOSTATIC PULSE ELECTROLYSIS, Proc. of 46th Annual Meeting of International Society of Electrochemistry(Xiamen, China), 7-61(1995)
8. S. Yoshihara, K. Yasuhara, T. Shirakashi, Underpotential deposition of lead on silver electrode under magnetic field, Proc. of 47th Annual Meeting of International Society of Electrochemistry(Balatonfured, Hungary), L1a-17 (1995)
9. Yoshihara, K. Yasuhara, T. Sakairi, T. Shirakashi, Early Stage of Lead Electrodeposition on Boron-Doped Diamond Thin Film Electrodes, Proc. of the International mini-Symposium on diamond electrochemistry and related topics (Tokyo, Japan), 23-25(1997)
10.S. Yoshihara, Y. Yamaguchi, S. Kusakari, K. Shinozaki, T. Shirakashi, Transparent Photocatalytic ZnO Films with High Performance: Preparation by Anodizing, Proc. of the Symposium on Photoelectrochemistry (Paris, France), 58-61(1997)
11.S. Yoshihara, S. Kusakari, T. Shirakashi, Photocatalytic Properties for ZnO Films Prepared by Electrochemical Procedures, Proc. of 48th Annual Meeting of International Society of Electrochemistry (Kitakyushu, Japan), 254(1998)
12.S. Yoshihara, S. Nonaka, T. Shirakashi, In Situ Investigation of Ion Migration Processes under Various Conditions by Quartz Crystal Microbalance, Proc. of AESF/SFSJ Advanced Surface Technology Forum (Hawaii, USA), 153-154(1998)
13.S. Yoshihara, K. Shinozaki, T. Shirakashi, Photoelectrodeposition of Copper on Boron-doped Diamond Films: Its Application to Conductive Pattern Forming on Diamond and Diamond Photographic Phenomenon, Proc. of Asian Finish '98(Seoul, Korea), 34-35(1998)
14.S.Yoshihara, Atsushi Ohno, Takashi Shirakashi, Kazuhito Hashimoto, Donald A. Tryk, Akira Fujishima, Metal Electrodeposition on Conductive Boron-doped Diamond Film: Characterization of the Metal-Diamond Interface by Acoustic Emission Technique, Proc. of '99 Asian Conference on Electrochemistry (Tokyo, Japan), 74(1999)
15.S. Yoshihara, K. Shinozaki, M. Ito, T. Shirakashi, The Nature of the Photographic Diamond Surface Phenomenon Revealed on Semiconductive Boron-doped Diamond Films, Proc. of 3rd the International mini-Symposium on diamond electrochemistry and related topics (Tokyo, Japan), 26 (1999)
16.S. Yoshihara, K. Shinozaki, T. Shirakashi, K. Hashimoto, D. A. Tryk, A. Fujishima, The Nature of the Photographic Diamond Surface Phenomenon on Boron-doped Diamond, Proc. of 50th Annual Meeting of International Society of Electrochemistry, 476 (Pavia, Italy), (1999)
17.S. Yoshihara, K. Shinozaki, T. Zenbayashi, S. Morino, T. Shirakashi, K. Hashimoto, D. A. Tryk, A. Fujishima, What is the Nature of the Photographic Diamond Surface Phenomenon on Boron-doped Diamond?, Proc. of The 6th China-Japan Bilateral Symposium on Intelligent Electrophotonic Materials & Molecular Electronics (Beijing, P. R. China), 8-9 (1999)
18.S. Yoshihara, T. Kyomen, T. Shirakashi, Electrochemical intercalation of lithium into the boron-doped diamond and a role of oxygen-containing functional groups at the surface as a gate for intercalation, Proc. of 4th International Mini-Symposium on Diamond Electrochemistry and Related Topics (Tokyo, Japan), 22 (2000)
19.S. Yoshihara, T. Kyomen, T. Shirakashi, K. Hashimoto, D. A. Tryk, A. Fujishima, PHOTOELECTROCHEMICAL REDUCTION OF LITHIUM ON SEMICONDUCTING BORON-DOPED DIAMOND BY ILLUMINATION FROM THE BACK SIDE OF THE ELECTRODE, Proc. of 51st Annual Meeting of International Society of Electrochemistry (Warsaw, Poland), 200 (2000)
20.Sachio YOSHIHARA, Kei-ichiro MOTOI, Akio CHIBA, Takashi SHIRAKASHI, Namio KUDOH, Wataru OIKAWA, IN SITU MONITORING OF THE ELECTROPLATING PROCESS OF Fe-Cr ALLOY BY THE USE OF QUARTZ CRYSTAL MICROBALANCE, Proc. of INTERFINISH 2000(Garmisch-Partenkirchen, Germany) (2000)
21.Sachio YOSHIHARA, Horoyuki Yamato, Takashi SHIRAKASHI, Namio KUDOH, Wataru OIKAWA, IN SITU MONITORING OF THE ELECTROPLATING PROCESS AND ITS PHOTOCATHODIC PROTECTION FROM CORROSION OF Fe-Cr ALLOY BY THE USE OF QUARTZ CRYSTAL MICROBALANCE, Proc. of 2001 Joint International Meeting of The 200th Meeting of The Electochemical Society and The 52nd Meeting of the International Society of Electochemistry (San Francisco, USA), 762 (2001)
22.Yanrong Zhan, Shunsuke Asahina, Miwa Suzuki, Sachio Yoshihara, Takashi Shirakashi, Electochemical Behavior of MeCN/BuNPF6 + C13H7 (OH)2 Solution on Boron-Doped Diamonds, Proc. of Frontiers of Surface Engineering 2001(FSE2001) Conference and Exhibition (Nagoya, Japan), 115 (2001)
23.Sachio Yoshihara, Hirokazu Tanaka, Fumitaka Ueta, Kazuhiro Kumekawa, Hiroaki Hiramatsu, Takashi Shirakashi, Newly Developed Real Time Monitoring System for Ionic Migration of Lead Free Solder by Means of Quartz Crystal Microbalance, Proceedings EcoDesign 2001: Second International Symposium on Environmentally Conscious Design and Inverse Manufacturing(Tokyo, Jaoan), 1064-1069 (2001) 引用数３
24.Yanrong Zhan, Masashi Ito, Sachio Yoshihara, Takashi Shirakashi, The Electocrystallization Process of Gold on Boron-Doped Diamond and Electrocatalysis of Oxygen Reduction by Deposited Au, Proc. of 5th International Mini-Symposium on Diamond Electrochemistry and Related Topics (Tokyo, Japan), 20-21 (2002)
25.Yanrong Zhan, Shunsuke Asahina, Sachio Yoshihara, Takashi Shirakashi, Fabrication and Characterization of Diamond Quartz Crystal Microbalance Electrode, Proc. of 5th International Mini-Symposium on Diamond Electrochemistry and Related Topics (Tokyo, Japan), 24 (2002)
26.Sachio Yoshihara, Shunsuke Asahina, Yanrong Zhang, Takashi Shirakashi, The Preparation of Boron-Doped Diamond EQCM, Proc. of 201st Meeting of The Electochemical Society (Philadelphia, USA), 1373 (2002)
27.S. Urabe, T. Fujisawa, S. Yoshihara, T. Shirakashi, Y. Hotoda, Study on Aging Property of Hydrophobic Epoxy System for Outdoor Insulation, IEEE/PES Transmission and Distribution Conference and Exhibition 3, 2181-2184(2002)引用数６
28.Sachio Yoshihara, Shunsuke Asahina, Yanrong Zhang, Takashi Shirakashi, Newly Developed Diamond Quartz Crystal Microbalance Electrode and Its Applications, Proc. of Meeting of International Society of Electrochemistry (Dusseldorf, Germany), 70 (2002)
29.Sachio Yoshihara, Recent Researches on printed circuit boards, diamonds and photocatalysis, The 9th China-Japan Bilateral Symposium On Intelligent Electrophotonic Materials & Molecular Electronics, 70-71 (Beijing, China), (2002) (Invited Lecture)
30.Yanrong Zhang, Sachio Yoshihara, Takashi Shirakashi, The Electrocrystallization processes of Gold on Boron-Doped Diamond and Electrocatalysis of Oxygen Reduction by Deposited Au, The 9th China-Japan Bilateral Symposium On Intelligent Electrophotonic Materials & Molecular Electronics, 91 (Beijing, China), (2002)
31.Hisaya Takahashi, Sachio Yoshihara, Yoshikazu Saijyo, Masanobu, Izaki, Fabrication of highly resistive ZnO/Cu layered circuit by chemical reaction, The 9th China-Japan Bilateral Symposium On Intelligent Electrophotonic Materials & Molecular Electronics, 112-113 (Beijing, China), (2002)
32.Shunsuke Asahina, Yanrong Zhang, Kazuhiro Kumekawa, Sachio Yoshihara, Takashi Shirakashi, Fabrication and Characterization of Quartz Crystal Microbalance Electrode, The 9th China-Japan Bilateral Symposium On Intelligent Electrophotonic Materials & Molecular Electronics, 114 (Beijing, China), (2002)
33.Sachio YOSHIHARA, Kiyoshi ISHII* and Takashi SHIRAKASHI, Fabrication of Highly Activated Photocatalytic Films by Use of Reactive Gas Flow Sputtering, TOEO-3, Tokyo(2003.4)
34.Nakamura H, Takahashi H, Yoshihara S, Saijo Y, Izaki M, Takashi Shirakashi, Masanobu Izaki, Fabrication of Highly Resistive ZnO/Cu Layered Circuit by Chemical Solution Process, 2003 ICEP Proceedings, 155-158 (2003.4)
35.Yoshihara S, NEWLY DEVELOPED REAL TIME MONITORING SYSTEM FOR IONIC MIGRATION BY MEANS OF QUARTZ CRYSTAL MICROBALANCE (QCM) AND ELECTROCHEMICAL IMPEDANCE SPECTROSCOPY (EIS). InterPACK 03:International Electronic Packaging Technical Conference and Exhibition, Maui, Hawaii, USA, (2003.7)
36.Yoshihara S, Fabrication of Highly Activated Photocatalytic Films by Use of Reactive Gas Flow Sputtering (Invited lecture), Singapore International Chemical Conference 3, Singapore(2003.12)
37.Vembu Suryanarayanan, Yanrong Zhang*, Sachio Yoshihara, Takashi Shirakashi, Amperometric Determination of Sodium thiosulphate and Naproxen using Boron-doped Diamond Electrodes, 21世紀COE慶応LCC国際シンポジウム～ダイヤモンドの電気化学とその関連トピック～（第7回ダイヤモンド国際ミニシンポジウム）、横浜市（2004.3）
38.Yanrong Zhang, Sachio Yoshihara, Takashi Shirakashi, Electrocatalytic behavior of Au nanoparticle deposited on oxygen-terminated boron-doped diamond electrodes for oxygen reduction in alkaline solution, 21世紀COE慶応LCC国際シンポジウム～ダイヤモンドの電気化学とその関連トピック～（第7回ダイヤモンド国際ミニシンポジウム）、横浜市（2004.3）
39.Sachio Yoshihara, Recent Trends on Photocatalysis, Printed Circuit Boards and Diamonds, FSISE 2004 ABSATRACTS, 113, Guangzhou, China(2004.5)
40.Yanrong Zhang, Sachio Yoshihara, Takashi Shirakashi, Cathodic Stripping Voltammetry of Nickel on Boron-doped Diamond, FSISE 2004 ABSATRACTS, 117, Guangzhou, China(2004.5)
41.Hisaya Takahashi, Sachio Yoshihara, Masanobu Izaki, Hirofimi Nakamura, An Ultra Fine Sn-Ag-Pd Catalyst for High Density Patterned Circuit Fabrication, FSISE 2004 ABSATRACTS, 118, Guangzhou, China(2004.5)
42.Sachio Yoshihara, Kenji Kubota, Namio Kudoh, Wataru Oikawa, Fe-Cr Compositionally Graded Films by Use of Electroplating, Proc. of Interfinish 2004 World Congress, 753-762, Chicago, USA(2004.6-7)
43.Sachio Yoshihara, Makoto Sato, Takashi Shirakashi, Evaluation of electric reliability for super connect level refined wiring pattern by AC impedance, 55th Annual Meeting of the INTERNATIONAL SOCIETY OF ELECTROCHEMISTRY Book of Abstract Ⅰ, 512, Thessaloniki, Greece(2004.9)
44.Sachio Yoshihara, Yanrong Zhang, Hiroaki Eguchi, Takashi Shirakashi, Fabrication and Characterization of Surface Modified Diamond Quartz Crystal Microbalance Electrode, 2004 International Joint Meeting 206th Meeting of the Electrochemical Society 2004 Fall Meeting of The Electrochemical Society of Japan, Hawaii, USA (2004.10)
45.Yanrong Zhang, Sachio Yoshihara, Takashi Shirakashi、Novel Application of Boron-Doped Diamond to Electrochemical Generation of Ozone, 21世紀COE慶応LCC国際シンポジウム～機能性炭素材料-医学・環境への応用～(第8回ダイヤモンド国際ミニシンポジウム）、横浜市（2005.3）
46.Sachio Yoshihara, Yanrong Zhang, Takeo Shinmura, Magnetic Finishing Abrasive with Diamond Composite Nickel Plated Active Carbon, Eurointerfinish 2005, 24, Barcelona, Spain(2005.5.12-13)
47.Sachio Yoshihara, V. Suryanarayanan and Z. Yanrong, Industrial Application of Boron-Doped Diamond: Detection of Sodium Thiosulphate, Naproxen and Nickel Ions and Electrocatalysis of Oxygen, 207th Meeting of The Electrochemical Society, 1479, Quebec, Canada(2005.5.15-20)
48.Sachio YOSHIHARA, Evaluation System for Ionic Migration On/In the Super Connect Leveled Printed Circuit Board by Means of AC Impedance, InterPACK ’05, San Francisco, CA, USA (2005.7.17-22)
49.Yanrong Zhang, Sachio Yoshihara, Takashi Shirakashi, FABRICATION AND CHARACTERIZATION OF FLUORINE-TERMINATED DIAMOND, The 56th Annual Meeting of International Society of Electrochemistry, 85, Busan, Korea (2005. 9.26-30)
50.Daisuke Suzuki, Akiyoshi Nakajima, Sachio Yoshihara, Namio Kudoh, Newly Developed Surface Finishing of the Anode for Water Electrolysis, The 56th Annual Meeting of International Society of Electrochemistry, 685, Busan, Korea (2005. 9.26-30)
51.Sachio Yoshihara, Yanrong Zhang, Keiko Hanzawa, Newly Developed Magnetic Finishing Abrasive with Nickel-Plated Active Carbon for Post CMP Process, The 56th Annual Meeting of International Society of Electrochemistry, 630, Busan, Korea (2005. 9.26-30)
52.Sachio Yoshihara, Yanrong Zhang, Takeo Shinmura, Magnetic Abrasive Finishing by use of Co-Ni Electroless plated Active Carbon and their Application to Post CMP Processes, 695, The 208th Meeting of The Electrochemical Society, Los Angeles, California, USA (2005.10.20)
53.Sachio Yoshihara, Keiko Hanzawa, Takashi Shirakashi, Newly Developed Magnetic Abrasive Finishing with Nano-sized Diamond Dispersed Nickel-Cobalt Electroless Plated Plastic Ball for Post CMP Process, The 57th Annual Meeting of International Society of Electrochemistry, S5-p-125, Edinburgh, UK (2006. 8.27-9.1)
54.Sachio Yoshihara, Keiko Hanzawa, Takashi Shirakashi, Magnetic Abrasive Finishing Using Nano-size Diamond Dispersed Co-Ni Electroless Plated Plastic Balls and its Application to Post CMP Process, ECS Transactions 3(25, Magnetic Materials Processes, and Devices 9), 357-369 (2007)
55.Yanrong Zhang, Yuki Kato, Sachio Yoshihara, Tadashi Watanabe, A Nobel Boron-Doped Diamond (BDD)-Coated Platinum Mesh Electrode for Spectroelectrochemistry, 46, 21世紀COE慶応LCC国際シンポジウム (第9回ダイヤモンド国際ミニシンポジウム)、横浜市（2007.3）
56.Muthu Murugananthan, Sachio Yoshihara, Tsuyoshi Rakuma, Takashi Shirakashi, Voltammetric behavior and incineration of 17-Ethinyl estradiol (EE2) at boron-doped diamond anode, 41, 21世紀COE慶応LCC国際シンポジウム (第9回ダイヤモンド国際ミニシンポジウム)、横浜市（2007.3）
57.Sachio Yoshihara, Keiko Hanzawa, Post CMP Process; the Application of Double Step Magnetic Abrasive Finishing by Use of Aluminum Oxide Dispersed Iron Abrasives and Nano-sized Diamond Dispersed Co-Ni Electroless Plated Plastic Balls, The 58th Annual Meeting of International Society of Electrochemistry, Banff, Canada (2007. 9.9-9.14)
58.Sachio Yoshihara, Muthu Murugananthan Decomposition of Various Endocrine-Disrupting Chemicals at Boron Doped Diamond Electrode, 6th Spring Meeting of the International Society of Electrochemistry, Foz do Iguaçu, Brazil (2008. 3.17-19)
59.Sachio Yoshihara, Photocatalytic Film Prepared by Electrophoretic Sol-Gel Deposition - Challenges for the Visible Light Activity, ECS Transactions - Honolulu, HI, Volume 16-Green Electrodeposition 2, (2009)
60.Daisuke Suzuki, Yuka Chikugo, Sachio Yoshihara, Kudo Namio, Daisuke Suzuki, In situ corrosion-resistance evaluation of Ni-P anode electrode for water electrolysis, PRiME 2008, Honolulu, Hawaii (2008.10.12-17)
61. (Plenary Lecture, Invited) Sachio Yoshihara, Vembu Suryanarayanan, Muthu.Murugananthan, Yanrong Zhang, Recent Trends in Diamond Electrochemistry, International Conference on Modern Trends in Materials Technology, Hotel Green Park, Chennai, Tamilnadu, India(2009.1.19-20)
62.Sachio Yoshihara, Preparations of Visible Light Sensitive TiO2 Photocatalytic films by Electrophoretic Sol-Gel Deposition, 7th Spring Meeting of the International Society of Electrochemistry, Szczyrk, Poland (2009.3.22-25)
63.Sachio Yoshihara, Shuuichi Sasaki, The Performance of Active Carbon Adsorbed with Cu(Ⅱ)-picolinic Acid Complex or Hydroquinone as Electric Double Layer Capacitor, 60th Annual Meeting of the International Society of Electrochemistry, Beijing, China (2009.8.16-21)
64.Sachio Yoshihara, Vembu Suryanarayanan, Muthu.Murugananthan, Yanrong Zhang, Recent Trends in Diamond Electrochemistry, The 61st Annual Meeting of the International Society of Electrochemistry, Nice, France (2010. 9.26-10.1)
65.Daisuke Suzuki, Ryu Miyamoto, Yoshifusa Ishikawa, Sachio Yoshihara, The cathodic performance of nickel-tungsten-sulfur alloy for alkaline water electrolysis, The 62nd Annual Meeting of the International Society of Electrochemistry, Niigata, Japan(2011. 9.11-16)
66. Sachio Yoshihara, QCM Analysis of the Deposition Process in the Presence of the Additives for Copper Foil, ECS Transactions - Boston, MA" Volume 41, "Fundamentals of Electrochemical Growth: From UPD to Microstructures 2", (2012)
67. Sachio YOSHIHARA, Ryu Miyamoto, Daisuke Suzuki, Tomoya Suzuki and Yoshifusa Ishikawa Newly Developed Electroplated Ni-W-S Alloy Cathode for Alkaline Water Electrolysis, The 63rd Annual Meeting of the International Society of Electrochemistry, Prague, Czech Republic (2012.8)
68. Daisuke Suzuki, Tomoya Suzuki, Koji Someya, Ryu Miyamoto, Yoshifusa Ishikawa, Sachio Yoshihara, Electroplated Ni-W-S alloy cathode for alkaline water electrolysis, Prime 2012, Honolulu, HI (2012.10)
69.Sachio Yoshihara, Co-Ni Electroless Composite Plating of 20 nm Diamond particles on 10 micrometer Plastic Balls and the Application of thus prepared devices to Post CMP Processes, Prime 2012, Honolulu, HI (2012.10)
70. Sachio Yoshihara, Daisuke Suzuki, Koji Someya Koji, Takanori Kikuchi, Yoshifusa Ishikawa, Electrode Performance of Newly Developed Ni-W-S Deposited Alloy for Alkaline Water Electrolysis, 223rd ECS Meeting, Toronto, ON, Canada, (2013.5.12-16)
71.Sachio Yoshihara, Muthu.Murugananthan, Vembu Suryanarayanan, Yanrong Zhang, 20 years of progress of our diamond electrochemistry-featuring decomposition of various Endocrine disrupting chemicals by use of boron doped diamond, International Symposium on Diamond Electrochemistry, Keio University (Yagami Campus), Yokohama, Japan (2014.3.18-19)
72.Muthu Muruganathan, M.Kumaravel, G. Bhaskar Raju, Sachio Yoshihara,Anodic oxidation of pharmaceutically active micropollutants by using boron doped diamond and platinum electrodes, International Symposium on Diamond Electrochemistry, Keio University (Yagami Campus), Yokohama, Japan (2014.3.18-19)
73. Sachio Yoshihara, Daisuke Suzuki, Kazuyoshi Suzuki, Kenta Asanuma, Electrode Performance of Newly Developed Ni-W-P Deposited Alloy for Alkaline Water Electrolysis, The 65th Annual Meeting of the International Society of Electrochemistry Ubiquitous Electrochemistry, Lausanne, Switzerland (2014.8.31-9.5)
74. Sachio Yoshihara, Recent Trends in Diamond Electrochemistry, The 10th International Symposium on Electrochemical Micro & Nanosystem Technologies (EMNT2014), Okinawa Convention Center (OCC), Okinawa, Japan (2014.11.5-8)
75. Sachio Yoshihara, Wataru Oikawa, Yoshifusa Ishikawa, Kazuyoshi Suzuki, Daisuke Suzuki, Application of Amorphous Alloy Plating to Various Industrial Fields., The 65th Annual Meeting of the International Society of Electrochemistry, Green Electrochemistry for Tomorrow’s Society, Taipei, Taiwan (2015. 10.4-9)
76. Sachio Yoshihara, Proposal of Various Application of Boron Doped Diamond Electrode， The International Chemical Congress of Pacific Basin Societies 2015, Honolulu, Hawaii, USA (2015)
76. Sachio Yoshihara, Co-Ni Electroless Composite Plating of Nanometer-Leveled Diamond Particles on Micrometer-Leveled Plastic Balls and the Application of Thus Prepared Devices to Various Electronics Processes, ECS Trans., 75(34), 35-41(2017)
77. Sachio YOSHIHARA, Application of Iron Based Alloy Electroplating to Environmental Friendly Industries-Hydrogen Generator, 231st ECS MEETING, New Orleans, LA, USA (2017)
78. Sachio Yoshihara, Performance of Newly Developed Iron Alloy Deposited Electrode for Alkaline Water Electrolysis, The 69th Annual Meeting of the International Society of Electrochemistry, Bologna, Italy (2018)
79. [Keynote Speech]Sachio Yoshihara, Hikari Ohtake, Jiu Sasaki, Application of Fe-Ni-W plated film electrode to Zinc air battery, The 6th Int’l Conference on Thin Film Technology and Applications (TFTA-BT 2019), Bangkok, Thailand (2019)
80. Sachio Yoshihara, Jiu Sasaki, Application of Various Iron-Based Plated Electrodes Under Different Plating Conditions As Air Electrodes for Metal-Air Batteries, Prime2020(On Line), Hawaii, USA (2020)
81. Sachio Yoshihara, Reo Takizawa, Yoshifusa Ishikawa, Ken-ichiro Motoi, Tetsushi Oikawa, Application of Various Iron-Based Plated Electrodes Under Different Plating Conditions to Aqueous Type Metal–Air Battery, 72nd Annual Meeting of the International Society of Electrochemistry, Cheju, Korea, Monday 30 August (2021)
82. A. Jasni, S. Yoshihara, F. Aiki, H. Watanabe, Pyrimidine derivative-based cyanide-free silver electroplating bath, INTERFINISH2020 20th world congress, Nagoya, Japan, SEP07 (2021)
83．Sachio YOSHIHARA, Taiga Saeki, Yoshifusa Ishikawa, Kenichiro Motoi, Tetsushi Oikawa, Atiqah Binti Jasni, Hikaru Saito, Fumio Aiki and Hideki Watanabe, Analysis of organic additives in copper or silver plating bath by use of boron-doped diamond electrode, International Conference on Surface Engineering & Regional INTERFINISH 2023 for 60th Anniversary of Korean Society of Surface Science and Engineering, Busan Port International Exhibition & Convention Center (BPEX), Busan, Korea, November 19-24, (2023)
(c) 著書―23 編
1.A. Fujishima, S. Yoshihara, New Trends and Approaches in Electrochemical Technology, ＶＣＨ(1993)
2.佐藤栄一，吉原佐知雄, 走査型トンネル顕微鏡／原子間力顕微鏡利用技術集成, ティー・アイ・シィー(1994)
3.吉原佐知雄，表面技術便覧，日刊工業新聞社(1998)ISBN4-526-04134-3
4.吉原佐知雄，エマルションの基礎と安定化および評価技術，技術情報協会(1998)ISBN4-906317-81-2
5.吉原佐知雄，電気化学便覧第５版，丸善(2000)ISBN4-621-04759-0
6.吉原佐知雄，表面処理工学 基礎と応用，日刊工業新聞社(2000)ISBN4-526-04522-5
7.吉原佐知雄，鉛フリーはんだ付け技術，リアライズ社(2000)
8.吉原佐知雄、ナノ粒子の製造・評価・応用・機器の最新技術、第５章ナノ粒子およびナノ構造体のトピックス 1.2酸化亜鉛光触媒, p163-171, 小泉光恵、奥山喜久夫、目 義雄 編集（シーエムシー出版）(2002.10)ISBN4-88231-374-X C3043
9.Vembu Suryanarayanan, Yanrong Zhang, Sachio Yoshihara, Diamond Electrochemistry, 17.Industrial Applications of Boron-doped Diamond: Detection of Sodium thiosulphate, Naproxen and Nickel ions and Electrocatalysis of Oxygen, Elsevier.(2005)ISBN4-939051-33-1(Japan)
10. 吉原佐知雄，栃木から世界をのぞく みんなの環境学think Globally, Act Locally,下野新聞社(2005)
11. 吉原佐知雄，図解 最先端表面処理技術のすべて、第4章 新しい機能性膜，新しい表面処理法、4-1 新しい機能性膜、マイクロ波プラズマCVD法によるボロンドープダイヤモンド膜、220-223、工業調査会(2006)ISBN4-7693-1261-X
12. 吉原佐知雄、【用途別】金属腐食・劣化への対策 －損傷事例・予測事例を踏まえてー＜実務編＞第４章 防食対策 ～実例と留意点～第４節 光触媒による防食―鉄クロム合金めっきへの適用例を中心に、第６章 ＜原因別＞腐食の実例と対応策 第５節 イオンマイグレーション、情報機構(2008)
13. M.Murugananthan, S.Yoshihara. “Anodic decomposition of endocrine disrupting chemicals using boron doped diamond (Si/BDD) thin film electrode” in Photo/Electrochemistry & Photobiology in the Environment, Energy and Fuel; Editor-in-chief: Prof.Satoshi Kaneco; Publisher: Research signpost, India.(2009)
14. M.Murugananthan, G.Bhaskar Raju, S.Yoshihara, “Treatment of pharmaceutically active compounds by electrooxidation using Boron Doped Diamond and platinum anodes”,in Hazardous Materials - Types, Risks and Control; Publisher: Nova Science Publishers, Inc., USA(2011)
15.吉原佐知雄、正しい測定値をだし、測定誤差をなくすために！インピーダンス測定における測定条件の設定・データの解釈と誤差補正の進め方、技術情報協会 (2013)
16.吉原佐知雄、オプト・エレクトロニクス・エネルギー分野における精密加工・微細構造形成のトラブル対策、応用事例集、技術情報協会 (2013)
17.吉原佐知雄、光音響分光法(PAS)、電気化学便覧第３版、丸善 (2013)
18. 吉原佐知雄、In-situ測定/その場観察 実例集～各種計測技術の実践テクニックおよび材料・デバイス別分析例～、情報機構 (2013年)
19. 吉原佐知雄、第２編第５章１ ボロンドープダイヤモンド電極及び活性炭繊維電極、レドックスフロー電池の開発動向（監修：野崎健、佐藤縁）、シー・エム・シー出版(2017)
20. 吉原 佐知雄、第４章 プリント配線基板における絶縁特性、向上第２節 FPCにおけるイオンマイグレーションの発生機構と接着層の絶縁性評価、高分子絶縁材料の絶縁破壊・劣化メカニズムとその対策技術、技術情報協会 (2020)
21. 吉原佐知雄、第3編：新規レドックスフロー電池の研究動向、第22章バナジウムイオンレドックスフローキャパシタの開発、再生可能エネルギー導入に向けたレドックスフロー電池の開発最前線（監修：佐藤 縁）、217-248、シー・エム・シー出版(2023.6.29)
22．吉原 佐知雄、第２章 各種表面改質技術の原理とその効果、第４節 磁気研磨の加工技術と複雑形状への対応－磁気研磨法によるはんだ印刷用マスク表面の研磨、ぬれ性改善へ向けた表面処理・改質技術とその評価、技術情報協会 (2023.6)
23．吉原 佐知雄、第4章第1節 スズ電解精錬を想定したSb・Bi含有Snアノード材の不働態化評価、不純物の分析法と化学物質の取り扱い、技術情報協会 (2024.1．31発行)
(d)総説・学術資料等-17編
1.吉原佐知雄, 光音響分光法－固液界面への適用, 表面技術, 43, 434-439 (1991)
2.吉原佐知雄, 光音響分光法による表面・界面の測定, 機能材料, 14 , 20-27(1994)
3.吉原佐知雄, 光音響分光法（ＰＡＳ）を用いた光合成電子伝達タンパク質の生化学的研究, 化学工学, 58, 397 (1994)
4.佐藤正寿，吉原佐知雄，佐藤栄一, Ｗ／Ｏエマルションの乳化状態の評価法, 超音波テクノ, 6, 46-50 (1994)
5.吉原佐知雄, 光音響法による界面の評価, 科学と工業, 70, 56-62 (1996)
6.吉原佐知雄，プリント回路上のイオンマイグレーションのQCMによる評価，表面技術，49(11), 1196-1200 (1998) 引用数３
7.吉原佐知雄，光音響分光法および水晶振動子マイクロバランス法を用いた解析,表面技術，50(5), 408-411 (1999)
8.吉原佐知雄，竹内浩士，表面技術で環境をきれいに―光触媒による環境浄化―，表面技術創立５０周年記念増刊号，92-96 (2000)
9.吉原佐知雄、鉛フリーはんだの耐マイグレーション性評価、ｴﾚｸﾄﾛﾆｸｽ実装学会誌、4(4)，267-271(2001) 引用数２
10.吉原佐知雄、酸化亜鉛を利用した光触媒の開発、ECO INDUSTRY, 7(5), 18 (2002)
11.吉原佐知雄、機能性電気めっきとその応用展開、Electrochemistry, 70(10), 806-810 (2002)
12.吉原佐知雄、最新の電気めっきとその応用展開、先端加工技術、58(11), 2-7 (2002)
13.黒崎崇敏、吉原佐知雄、ゾルーゲル電気泳動電着法により作製した酸化チタン皮膜の光触媒活性についての研究と課題、会報 光触媒、7，74-77 (2002)
14.吉原佐知雄、田中浩和、次世代型実装信頼性プロセスに対する交流インピーダンス法による信頼性評価、JPCAニュース、424 （2003）
15.吉原佐知雄、配線板の要素技術に対する電気的信頼性の最新評価法―鉛フリーはんだからスーパーコネクトまでー、表面技術、56(10)、565-571（2005）引用数２
16. 吉原佐知雄、Fe-Cr合金めっきの光カソード防食とその評価技術、防錆管理、49(12)、471-476 (2005)
17. 吉原佐知雄，使える解析テクニック！具体例で説明する電気化学測定法 In situ測定(3) QCM， Electrochemistry，79，571-577 (2011)
(f)特許等―１８件
1. US Patent 6,798,222, H Tanaka, S Yoshihara, T Shirakashi, H Hiramatsu, K Kumekawa, F Ueta, Migration measuring method and measuring apparatus (2004) 引用数６
2. 特許第6421232号 特願2017-235508（出願日：平29.12. 7、登録日：平成30年10月19日）銅亜鉛合金めっき膜及びその形成方法、発明者、吉原佐知雄、特許出願人；国立大学法人宇都宮大学
3. 特許第6803069号 アルカリ水電解用電極、その製造方法及び水素発生装置、発明者 吉原佐知雄、特許出願人；国立大学法人宇都宮大学
4. 特許5701080号 特願2011-015820、出願日；平成23年1月27日（取得日；平成27年2月27日）、発明者；鈴木大介・鈴木友也・吉原佐知雄・石川祥久（出願人；㈱バンテック、国立大学法人宇都宮大学、日本プレーテック㈱）、アルカリ水電解用電極、その製造方法及び水素発生装置、国内特許取得
5. 特許第5099635号 特願2008-14758（特開2009-080094）、出願日；平成20年1月25日（公開日；平成21年4月16日 取得日；平成24年10月5日）、発明者；吉原佐知雄・横山直樹（出願人；国立大学法人宇都宮大学）、プリント配線板の耐マイグレーション性予測法および予測装置、国内特許取得
6. 特許第3953921号 特願2002-264829（平成１４年９月１０日、取得日；平成18年、平成21年度～特許継続）、発明者；吉原佐知雄・朝比奈俊輔・張 延栄・白樫高史（出願人；吉原佐知雄・日本プレーテック㈱）、ダイヤモンドQCMの作製方法及びそのダイヤモンドQCM、国内特許取得
7. 特許4109825号 特願2000-326830、出願日：平成１２年１０月２６日（取得日：平成20年4月11日）、発明者；吉原佐知雄・及川 渉（出願人；吉原佐知雄・日本プレーテック㈱）,光触媒による摺動部材の錆防止方法,国内特許取得
8. 特許4139906号 特願2006-084654、出願日：平成18年3月27日（取得日；平成20年6月20日）、発明者；吉原佐知雄（出願人；国立大学法人宇都宮大学）、開口パターン付き薄板の研磨方法及び磁気研磨装置、国内特許取得
9. 特許4143726号 特願2004-070614、出願日；平成16年3月12日（取得日；平成20年6月27日）、発明者；吉原佐知雄・坂井勇磨（出願人；国立大学法人宇都宮大学）、磁性砥粒及び磁性砥液，国内特許取得
10. 特許4143727号 特願2004-372950、出願日；平成16年12月24日（取得日；平成20年6月27日）、発明者；吉原佐知雄・張 延栄、（出願人；国立大学法人宇都宮大学）、磁性砥粒及びその製造方法、国内特許取得
11. 特許4185987号 特願2005-337065、出願日；平成17年11月22日（取得日；平成20年9月19日）、発明者；吉原佐知雄（出願人；国立大学法人宇都宮大学）、磁気援用微細研磨装置及び磁気援用微細研磨方法、国内特許取得
12. 特許3789005号 特願平8-114862（特開平9-299791）、出願日；平成8年5月9日（取得日；平成18年4月7日）、発明者；山口靖英・山崎正敏・藤嶋 昭・橋本和仁・白樫高史，吉原佐知雄（出願人；三井金属鉱業株式会社）、光触媒活性及びメタノール分解活性を有する触媒皮膜及び光触媒皮膜、国内特許取得
13. 特許4300132号 特願2004―039318、出願日；平成16年2月17日（取得日；平成21年4月24日）発明者；吉原佐知雄・久保田賢治・及川 渉（出願人；吉原佐知雄・日本プレーテック㈱）、組成傾斜構造を持つ合金めっき皮膜及びその作製方法、国内特許取得
14. 特許4324672号 特願2004-276533、出願日；平成16年9月24日（取得日；平成21年6月19日）、発明者；吉原佐知雄・張 延栄（出願人；国立大学法人宇都宮大学）、ダイヤモンド電極及びこれを用いた無電解ニッケルめっき浴の管理方法並びに測定装置、国内特許取得
15. 特許第4037685号 特願2002-144017、出願日；平成14年5月20日、発明者；川津雅巳・石井 清・吉原佐知雄、スパッタリング装置、及びスパッタリング方法、国内特許取得
16. 特許第5802085号 特願2011-189670 出願日；平成23年8月31日発明者；鈴木大介・鈴木友也・吉原佐知雄・石川祥久、アルカリ水電解用電極の製造方法、国内特許取得（特許年金支払い済み2020年8月20日第6年分）
17. 特願2001-95913 出願日；平成13年3月29日（公開日；平成14年10月9日）、発明者；田中浩和・吉原佐知雄・白樫高史・中村誠・植田文崇・山下美香，マイグレーション測定方法および測定装置，国内特許出願
18. 特願 2002-47827 出願日；平成15年9月5日、発明者；浦辺修一・吉原佐知雄・白樫高史・保土田善文・山下太郎、成形用樹脂組成物および電気・電子器具、国内特許出願